文献

J-GLOBAL ID：201002289036218820   整理番号：10A1245658

Siのドライエッチング用の自己組織化多孔質高分子マスク

Preparation of Self-Organized Porous Polymer Masks for Si Dry Etching

著者 (8件)： HIRAI Yuji (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YABU Hiroshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MATSUO Yasutaka (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  MATSUO Yasutaka (JST-CREST, Kawaguchi, JPN) ,  IJIRO Kuniharu (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  IJIRO Kuniharu (JST-CREST, Kawaguchi, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (JST-CREST, Kawaguchi, JPN)
資料名： Macromolecular Symposia  (Macromolecular Symposia)
巻： 295  ページ： 77-80  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0318C  ISSN： 1022-1360  CODEN： MSYMEC  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,先に自己組織化技術を用いるハニカム-模様多孔性構造,規則配置ドット-パターン,線及び空間パターン,はしご-模様構造,などのような高分子ナノ及びミクロパターンの簡単な調製法を報告した。ここでは,底層から剥離後のハニカム-模様膜の最上層に注目したが,最上層は,調製条件にかかわらず,均一配置貫通細孔を有し,ドライエッチングマスクに利用できるからである。本報では,自己組織化ハニカム-模様高分子膜からのドライエッチングマスクの簡単で且つ容易な調製方法を報告した。簡単に調製した多孔性高分子マスクを用いることによって,Si基板の表面に六角形に配置したミクロパターンが形成される。すなわち,鋳型として凝縮水滴アレイを用いることによって,自己組織化ハニカム-模様高分子膜を調製した。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *ドライエッチング ,  *自己組織化 ,  ウエハ【IC】 ,  ポリスチレン ,  ポリビニルアルコール ,  ポリアクリルアミド ,  共重合体 ,  *パターン形成 ,  多孔質体 ,  マイクロマシニング ,  凝縮水 ,  水滴 ,  鋳型効果 ,  *高分子薄膜 ,  細孔径 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  ハニカム構造
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  ナノパターン形成 ,  ミクロパターン形成

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： N-ドデシルアクリルアミド ,  ω-カルボキシヘキシルアクリルアミド

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  ドライエッチング ,  自己組織化 ,  多孔質 ,  高分子 ,  マスク