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J-GLOBAL ID：201002291475012752   整理番号：10A0814355

SF₆雰囲気下でのQ-スイッチNd:YAGレーザーとエキシマレーザーの照射による非晶質SiO₂ガラスへのフッ素侵入

Fluorine Penetration into Amorphous SiO₂ Glass at SF₆ Atmosphere Using Q-Switched Nd:YAG and Excimer Laser Irradiations

著者 (2件)： DEHGHANPOUR Hamid Reza (Tafresh Univ., Tafresh, IRN) ,  PARVIN Parviz (Amirkabir Univ. Technol., Tehran, IRN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49  号： 7,Issue 1  ページ： 075803.1-075803.5  発行年： 2010年07月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最大0.1mbarまでの低圧力で,SF₆ガス分解と非晶質SiO₂ガラス上の形態変化が同時に起こることの証拠を,紫外線(UV;193nm),可視(532nm)および,近赤外線(NIR;1064nm)の標準的波長で,さまざまなレーザー照射することによって調査した。計測による表面の微量分析を,レーザーブレイクダウン分光法(LIBS),走査電子顕微鏡法(SEM),Rutherford後方散乱分光法(RBS),波長分散型X線(WDX)マッピング,エネルギー分散型X線(EDX)微量分析および,光分光器のたくさんの計測器で適宜に使用して行った。より短い波長でのエキシマレーザーでは,表面UV光蒸散とその後のSF₆衝突分解が主な原因によって,ガラス上に微細構造化が誘起した。逆に,Q-switched Nd:YAGレーザーの基本波と第二高調波発生といった,より長い波長でのガラスへのレーザー照射では,マイクロプラズマ誘起による蒸散とその後のSF₆電子衝突分解が根拠になった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： YAGレーザ ,  エキシマレーザ ,  *レーザ照射 ,  *石英ガラス ,  *雰囲気 ,  フッ化硫黄 ,  微量分析 ,  走査電子顕微鏡 ,  Rutherford後方散乱 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  レーザ分光法 ,  発光分析 ,  Qスイッチング ,  *ドーピング ,  *フッ素 ,  *光分解 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  非晶質シリカ ,  六フッ化硫黄

分類 (1件)： レーザの応用  (BD04100V)

引用文献 (21件)：

• K. Naoyuki, F. Kohei, and N. Junji: Jpn, J. Appl. Phys.45(2006)1725.
• R. W. MacPherson and J. C. Anctil: J. Phys. Colloq.41(1980) C9-95.
• T. J. Chuang: J. Chem. Phys.72(1980)6303.
• B. K. Nayak, M. C. Gupta, and K. W. Kolasinski: Appl. Surf. Sci.253(2007)6580.
• B. K. Nayak, M. C. Gupta, and K. W. Kolasinski: Nanotechnology 18(2007)195302.

タイトルに関連する用語 (8件)： SF6 ,  雰囲気 ,  Nd ,  YAGレーザー ,  エキシマレーザー ,  ガラス ,  フッ素 ,  侵入