文献

J-GLOBAL ID：201002291522620103   整理番号：10A0133838

Rotomak放電に基づいたフォトリソグラフィー応用のための極端紫外線源

An Extreme Ultraviolet Source for Photolithographic Applications Based on Rotamak Discharge

著者 (4件)： HUGRASS Waheed (Univ. Tasmania, Tasmania, AUS) ,  OHNISHI Masami (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  CHIKANO Tomonori (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  TSUKAMOTO Masanobu (Kansai Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49  号： 1,Issue 1  ページ： 016201.1-016201.4  発行年： 2010年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Kansai Rotamakにおいて生成されたキセノンプラズマを用いて,約66Wの極端紫外(EUV)放射線を生成した。Kansai Rotamakのプラズマは,一対の200kHz/180kW発振器を用いて発生させた回転磁場(RMF)を用いて生成された。プラズマは,印加RMFの持続時間によってのみ制限される5msの時間の間維持された。Rotomakプラズマ放電は無電極であり,その形状は十分に単純で,放出EUV放射の容易な利用を可能にした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 光源 ,  線源 ,  *プラズマ ,  *キセノン ,  発振器 ,  回転磁場 ,  *放電 ,  フォトリソグラフィー
準シソーラス用語： *極端紫外線光源 ,  無電極

分類 (2件)： 線源,照射装置  (MC01020V) ,  プラズマ生成・加熱  (BJ02060E)

引用文献 (17件)：

• B. Santo: IEEE Spectrum 44(2007) No.8, 12.
• H. Fiedorowicz: Laser Part. Beams 23(2005)365.
• S. R. Das: IEEE Spectrum 45(2008) No.3, 14.
• C. Suzuki, H. Nishimura, M. Ochiai, T. Kato, S. Okamura, R. More, K. Nishihara, M. Nakai, K. Shigemori, S. Fujioka, and H. Ogawa: J. Plasma Fusion Res.81(2005)480.
• S. F. Home, M. M. Besen, D. K. Smith, P. A. Blackborow, and R. D’Agostino: Proc. SPIE 6151(2006)61510P.

タイトルに関連する用語 (4件)： 放電 ,  フォトリソグラフィー ,  応用 ,  極端紫外線