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J-GLOBAL ID:201002292552447178   整理番号:10A0770737

フォトクロミズムジアリールエテン薄膜上の光制御選択的金属析出-エレクトロニクスとフォトニクスにおける新しい応用に向けて-

Light-Controlled Selective Metal Deposition on a Photochromic Diarylethene Film-Toward New Applications in Electronics and Photonics-
著者 (5件):
資料名:
巻: 83  号:ページ: 756-761 (J-STAGE)  発行年: 2010年 
JST資料番号: G0450A  ISSN: 0009-2673  CODEN: BCSJA8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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フォトクロミズムジアリールエテン(DAE)薄膜上Zn,Mg及びMnについて光照射によって制御した選択的金属析出を行った;着色薄膜上にのみ金属蒸気原子を析出するが,非着色薄膜上には析出しなかった。金属の析出特性は析出速度に大きく依存した。レーザ走査とシャドーマスクなしに通常の真空蒸着法によって微細金属パターンを作製した。単一真空過程でマスクなし蒸着を経由してZn,Mg及びMnの多重金属パターン調製も実証した。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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金属薄膜  ,  光化学反応,ラジカル反応 

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