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J-GLOBAL ID：201002292824359281   整理番号：10A0686601

僅かに還元されたNbドープTiO_2-xセラミックターゲットを用いたdcマグネトロンスパッタリングにより堆積したNbドープTiO₂膜の電気的及び光学的性質

Electrical and optical properties of Nb-doped TiO₂ films deposited by dc magnetron sputtering using slightly reduced Nb-doped TiO_2-x ceramic targets

著者 (6件)： SATO Yasushi (Graduate School of Sci. and Engineering, Aoyama Gakuin Univ., 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, JPN) ,  SANNO Yuta (Graduate School of Sci. and Engineering, Aoyama Gakuin Univ., 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, JPN) ,  TASAKI Chihiro (Graduate School of Sci. and Engineering, Aoyama Gakuin Univ., 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, JPN) ,  OKA Nobuto (Graduate School of Sci. and Engineering, Aoyama Gakuin Univ., 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, JPN) ,  KAMIYAMA Toshihisa (AGC Ceramics Co. Ltd., 5-6-1 Umei, Takasago, Hyogo 676-8655, JPN) ,  SHIGESATO Yuzo (Graduate School of Sci. and Engineering, Aoyama Gakuin Univ., 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 28  号： 4  ページ： 851  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NbドープアナターゼTiO₂膜を各種水素あるいは酸素流量比で僅かに還元されたNbドープTiO_2-xターゲット(Nb濃度:3.7及び9.5at.%)を用いたdcマグネトロンスパッタリングにより無加熱ガラス上に堆積した。500°C,1h,真空中でのポストアニーリング後,両膜は,多結晶アナターゼTiO₂構造に結晶化した。抵抗率は2.8から8.0at.%へのNb濃度の増加に伴い1.6×10^-3から6.3×10^-4Ωcmまで低下し,キャリア密度は5.4×10²⁰から2.0×10²¹へ増加し,Hall移動度は5~7cm²V^-1s^-1でほとんど一定であった。膜は,可視領域において60~80%の高い透明度を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化チタン ,  *ニオブ ,  *ドーピング ,  アナターゼ型結晶 ,  マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  結晶化 ,  多結晶 ,  *電気抵抗率 ,  キャリア密度 ,  Hall移動度 ,  *透明導電膜 ,  *透過率 ,  光学定数
準シソーラス用語： ガラス基板

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (9件)： 還元 ,  Nb ,  ドープ ,  TiO2 ,  セラミック ,  ターゲット ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  光学的性質