特許
J-GLOBAL ID:201003002834375248

ブロック共重合体の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  有賀 三幸 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  村田 正樹 ,  山本 博人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-223426
公開番号(公開出願番号):特開2010-059231
出願日: 2008年09月01日
公開日(公表日): 2010年03月18日
要約:
【課題】カチオン重合可能なビニル系モノマーとラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体を、簡便かつ高収率で得る製造方法を提供する【解決手段】RAFT剤の存在下にカチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合させ、得られたリビングポリマーにラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合させることを特徴とする、該カチオン重合可能なビニル系モノマーと該ラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体の製造法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
RAFT剤の存在下にカチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合させ、得られたリビングポリマーにラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合させることを特徴とする、該カチオン重合可能なビニル系モノマーと該ラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体の製造法。
IPC (2件):
C08F 297/02 ,  C08F 2/38
FI (2件):
C08F297/02 ,  C08F2/38
Fターム (29件):
4J011AC03 ,  4J011BA04 ,  4J011BB01 ,  4J011BB02 ,  4J011BB07 ,  4J011DA04 ,  4J011GB09 ,  4J011HB21 ,  4J011HB27 ,  4J011NA26 ,  4J011NB04 ,  4J026HA10 ,  4J026HA20 ,  4J026HA25 ,  4J026HA32 ,  4J026HA39 ,  4J026HB06 ,  4J026HB11 ,  4J026HB23 ,  4J026HB32 ,  4J026HB38 ,  4J026HB42 ,  4J026HB44 ,  4J026HB47 ,  4J026HD06 ,  4J026HD09 ,  4J026HD10 ,  4J026HD11 ,  4J026HE01
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
全件表示
引用文献:
前のページに戻る