特許
J-GLOBAL ID:201003002834375248
ブロック共重合体の製造法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (6件):
特許業務法人アルガ特許事務所
, 有賀 三幸
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 村田 正樹
, 山本 博人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-223426
公開番号(公開出願番号):特開2010-059231
出願日: 2008年09月01日
公開日(公表日): 2010年03月18日
要約:
【課題】カチオン重合可能なビニル系モノマーとラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体を、簡便かつ高収率で得る製造方法を提供する【解決手段】RAFT剤の存在下にカチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合させ、得られたリビングポリマーにラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合させることを特徴とする、該カチオン重合可能なビニル系モノマーと該ラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体の製造法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
RAFT剤の存在下にカチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合させ、得られたリビングポリマーにラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合させることを特徴とする、該カチオン重合可能なビニル系モノマーと該ラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体の製造法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (29件):
4J011AC03
, 4J011BA04
, 4J011BB01
, 4J011BB02
, 4J011BB07
, 4J011DA04
, 4J011GB09
, 4J011HB21
, 4J011HB27
, 4J011NA26
, 4J011NB04
, 4J026HA10
, 4J026HA20
, 4J026HA25
, 4J026HA32
, 4J026HA39
, 4J026HB06
, 4J026HB11
, 4J026HB23
, 4J026HB32
, 4J026HB38
, 4J026HB42
, 4J026HB44
, 4J026HB47
, 4J026HD06
, 4J026HD09
, 4J026HD10
, 4J026HD11
, 4J026HE01
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
ブロック共重合体の製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-246968
出願人:協和醗酵工業株式会社
-
ブロック共重合体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-122260
出願人:鐘淵化学工業株式会社
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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