特許
J-GLOBAL ID：201003004618519211
蒸着マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-230611
公開番号（公開出願番号）：特開2010-065247
出願日： 2008年09月09日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：
【課題】蒸着マスクの開口部に補強用の梁を形成することにより、精密なパターンの形成を実現すると共に、前記梁による蒸着材料の遮蔽領域を少なくし、蒸着パターンの膜厚均一性を最大限高めることができるようにした蒸着マスクを提供する。【解決手段】本発明の蒸着マスク1は、被成膜基板10上に蒸着を用いて形成される薄膜パターン15に対応して、蒸着材料40を通過させるための開口部3が設けられ、開口部3が平行に所定の間隔をもって複数配列された薄板状の蒸着マスク1において、開口部3を横切る位置に複数の補強梁4a,4b,4c,4d,4eが形成され、複数の補強梁4a,4b,4c,4d,4eは、開口部3の中央部で相対的に密に形成され、開口部3の端部で相対的に粗に形成されていることを特徴とする。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
被成膜基板上に蒸着を用いて形成される薄膜パターンに対応して、蒸着材料を通過させるための開口部が設けられ、前記開口部が平行に所定の間隔をもって複数配列された薄板状の蒸着マスクにおいて、
前記開口部を横切る位置に複数の補強梁が形成され、
前記複数の補強梁は、前記開口部の中央部で相対的に密に形成され、前記開口部の端部で相対的に粗に形成されていることを特徴とする蒸着マスク。
IPC (3件)：
C23C 14/04
, H05B 33/10
, H01L 51/50
C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB03
, 3K107BB04
, 3K107GG04
, 3K107GG33
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029HA03
