特許
J-GLOBAL ID：200903047404938616
成膜用精密マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法、電子機器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小林 久夫
, 佐々木 宗治
, 木村 三朗
, 大村 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-011451
公開番号（公開出願番号）：特開2004-225071
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】有機EL表示装置の発光層等の蒸着のときにガラス基板との位置合わせが容易で、また強度が十分で正確な蒸着パターンの形成ができる成膜用精密マスクを提供する。更に、このような成膜用精密マスクを簡単かつ確実に製造する方法、有機EL表示装置及びその製造方法、有機EL表示装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】平行に所定の間隔をもって配置され、複数の第1の開口部2を形成する第1の梁3と、第1の梁3の上に当該第1の梁3に交差して配置され、複数の第2の開口部4を形成する1又は複数の第2の梁5とを備え、第1の梁3と第2の梁5とは交差部分で連結されているものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
平行に所定の間隔をもって配置され、複数の第1の開口部を形成する第1の梁と、
前記第1の梁の上に当該第1の梁に交差して配置され、複数の第2の開口部を形成する1又は複数の第2の梁と
を備え、前記第1の梁と前記第2の梁とは交差部分で連結されていることを特徴とする成膜用精密マスク。
IPC (4件)：
C23C14/04
, C23C14/24
, H05B33/10
, H05B33/14
C23C14/04 A
, C23C14/24 G
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029CA01
, 4K029HA02
, 4K029HA03
