耐汚れ性に優れた選択的分離膜

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-162131
公開番号（公開出願番号）：特開2010-240651
出願日： 2010年07月16日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：

【課題】耐汚れ性に優れた選択的分離膜を提供する。【解決手段】本発明による選択的分離膜は、親水性コーティングが分離膜のポリアミド層に施されたポリアミド逆浸透複合膜である。前記親水性コーティングは、親水性化合物をポリアミド分離膜の残余の酸塩化物に共有結合させて施され、前記親水性化合物は、(i)前記ポリアミド層に直接的に共有結合される少なくとも一つの反応性基であり、前記少なくとも一つの反応性基が少なくとも一つの1級アミンまたは2級アミンであり、(ii)少なくとも一つの親水性基であり、前記少なくとも一つの親水性基がヒドロキシ基、カルボニル基、トリアルコキシシラン基、アニオン基、3級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの親水性基であり、(iii)前記親水性化合物がポリアルキレンオキシド基を含んでいないものよりなる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)多孔性支持体と、 (b)前記多孔性支持体上のポリアミド層と、 (c)前記ポリアミド層上に施された親水性コーティングと、からなり、前記親水性コーティングが親水性化合物をポリアミド層の残余の酸塩化物に共有結合させることにより施され、前記親水性化合物が(i)前記ポリアミド層に直接的に共有結合される少なくとも一つの反応性基である少なくとも一つの1級アミンまたは2級アミンを含む親水性アミノ化合物であり、(ii)複数のヒドロキシ基、カルボニル基、トリアルコキシシラン基、アニオン基、3級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有し、但し(iii)前記親水性基がポリアルキレンオキシド基ではないことを特徴とするポリアミド逆浸透複合膜。

IPC (5件)：

B01D 71/56 , B01D 69/10 , B01D 69/12 , B01D 71/82 , B01D 61/02

FI (6件)：

B01D71/56 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/82 500 , B01D61/02 , B01D71/82

Fターム (33件)：

4D006GA03 , 4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006MA09 , 4D006MA10 , 4D006MB01 , 4D006MB02 , 4D006MB09 , 4D006MB11 , 4D006MC22 , 4D006MC23 , 4D006MC29 , 4D006MC37 , 4D006MC39 , 4D006MC54 , 4D006MC56X , 4D006MC58 , 4D006MC59 , 4D006MC62X , 4D006MC63 , 4D006MC71X , 4D006MC74X , 4D006MC75X , 4D006MC77X , 4D006MC78X , 4D006NA41 , 4D006NA46 , 4D006NA60 , 4D006NA64 , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PB52 , 4D006PC11

引用特許：

審査官引用 (6件)

下水処理用複合半透膜およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-344433 出願人：東レ株式会社
特開平2-002827
複合逆浸透膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-321708 出願人：日東電工株式会社

全件表示

前のページに戻る