特許
J-GLOBAL ID：201003007801801898
磁気-光学活性ポリチオフェン誘導体とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-195495
公開番号（公開出願番号）：特開2010-031157
出願日： 2008年07月29日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：
【課題】ポリマー主鎖間でのキラル集合による主鎖間の螺旋間構造によるキラルな光学活性を示し、さらにポリマーが安定なラジカルを保持することにより磁気的な活性をも示す新規な磁気-光学活性ポリチオフェン誘導体とその製造方法を提供する。【解決手段】ビストリアルキルスタンニルチオフェン化合物と、これと反応させるチオフェン誘導体として2,5-ジ-tert-ブチル-4-(2,5-ジブロモチオフェン-3-イル)フェノキシトリメチルシランをコレステリック液晶媒体中においてパラジウム触媒の存在下に反応させてポリチオフェン誘導体を合成し、次いでトリメチルシリル基で保護されたフェノール性水酸基の脱保護と酸化により、対応するポリラジカルキラルポリマーとしてのポリチオフェン誘導体を得る。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(I)
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4J032BA04
, 4J032BB04
, 4J032BC03
, 4J032CG01
