特許
J-GLOBAL ID:200903066135500417
キラルポリマーの製造方法及びこれにより得られたキラルポリマー
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-322364
公開番号(公開出願番号):特開2006-131758
出願日: 2004年11月05日
公開日(公表日): 2006年05月25日
要約:
【課題】 キラルなモノマーやキラル触媒を用いることなく、アキラルモノマーから安定なキラルポリマーを簡便に得る。【解決手段】 キラル触媒を用いることなく、キラルネマティック液晶相を溶媒として使用し、この液晶相が維持される温度下で、0価のパラジウム触媒を使用して、アキラルモノマーの重縮合を行って、例えば嵩高い置換基を有し且つチオフェン、フェニルなどを構造単位とするキラルポリマーを得る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
キラル触媒及びキラルモノマーを用いることなく、液晶相が維持される温度でキラルネマティック液晶を溶媒として用いてアキラルモノマーを重合し、キラルポリマーを得ることを特徴とするキラルポリマーの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (12件):
4J032BA03
, 4J032BA05
, 4J032BA08
, 4J032BA13
, 4J032BB06
, 4J032BC03
, 4J032CA04
, 4J032CB03
, 4J032CC01
, 4J032CD02
, 4J032CE03
, 4J032CE17
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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