特許
J-GLOBAL ID：201003009393530859

洗浄装置、基板処理システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

発明者：
山内 剛

山内 剛 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-323195
公開番号（公開出願番号）：特開2010-147262
出願日： 2008年12月19日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：
【課題】基板のフォトリソグラフィー処理前に、基板の周縁部に付着した付着物を適切に除去する。【解決手段】洗浄装置1は、ウェハWを保持して回転させるスピンチャック20を有している。洗浄装置1には、内部に常温より高い温度の純水を貯留する浸漬容器30が設けられている。浸漬容器30のウェハW側の側面には、ウェハWの周縁部Bを挿入するための側面開口部33が形成されている。浸漬容器30は、高温の純水でウェハWの周縁部Bを浸すことができる。洗浄装置1には、ウェハWの周縁部Bに常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付ける第1の洗浄液ノズル50と第2の洗浄液ノズル51が設けられている。これらノズル50、51から供給される洗浄液は、洗浄液供給部70で純水と不活性ガスが混合された洗浄液である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板のフォトリソグラフィー処理前に基板の周縁部を洗浄する洗浄装置であって、 基板を保持して当該基板を回転させる回転保持部と、 基板の周縁部に常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付ける洗浄液ノズルと、 側面に基板の周縁部を挿入するための開口部が形成され、内部に常温より高い温度の純水を貯留する浸漬容器と、を有することを特徴とする、洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/04
FI (6件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 642D ,  H01L21/304 642E ,  B08B3/02 B ,  B08B3/04 B ,  H01L21/304 642F
Fターム (41件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB02 ,  3B201BB23 ,  3B201BB36 ,  3B201BB38 ,  3B201BB82 ,  3B201BB84 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22 ,  3B201CD43 ,  5F157AA12 ,  5F157AA63 ,  5F157AA88 ,  5F157AA93 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB46 ,  5F157AB48 ,  5F157AB62 ,  5F157AB72 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC26 ,  5F157BB02 ,  5F157BB23 ,  5F157BB35 ,  5F157BB37 ,  5F157BB66 ,  5F157BD26 ,  5F157BE12 ,  5F157CF34 ,  5F157CF44 ,  5F157CF66 ,  5F157DB47 ,  5F157DC84
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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