基板処理システム及び基板洗浄装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：別役重尚 , 村松聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-089803
公開番号（公開出願番号）：特開2008-251743
出願日： 2007年03月29日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：

【課題】基板の裏面や周縁部に付着した異物を完全に除去することができる基板処理システムを提供する。【解決手段】基板処理システム10が備える基板洗浄装置としてのプロセスモジュール15は、ウエハWを収容するチャンバ38と、該チャンバ38内の底部に配置されてウエハWを載置するステージ39と、チャンバ38内の天井部に配置されてステージ39に対向するシャワーヘッド40とを備え、ステージ39はウエハWの裏面や周縁部に向けて液相及び気相の2つの相状態を呈する洗浄物質、例えば、純水と、不活性ガス、例えば、窒素ガスとが混合された洗浄剤を噴出し、シャワーヘッド40はウエハWの表面に向けたダウンフローを発生させる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を施す基板処理装置と、少なくとも前記所定の処理の前後のいずれかにおいて前記基板を洗浄する基板洗浄装置とを備える基板処理システムであって、前記基板洗浄装置は、気相及び液相の2つの相状態を呈する洗浄物質、並びに高温ガスを、前記基板の裏面や周縁部に向けて噴出する噴出装置を有することを特徴とする基板処理システム。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (7件)：

H01L21/304 643B , H01L21/304 645A , H01L21/304 648Z , H01L21/304 647A , H01L21/304 647B , H01L21/304 647Z , H01L21/304 643C

Fターム (31件)：

5F157AA12 , 5F157AA15 , 5F157AA63 , 5F157AA64 , 5F157AA69 , 5F157AA92 , 5F157AA93 , 5F157AB02 , 5F157AB14 , 5F157AB33 , 5F157AB49 , 5F157AB51 , 5F157AB64 , 5F157AC01 , 5F157BB13 , 5F157BB33 , 5F157BB37 , 5F157BB42 , 5F157BB66 , 5F157BB72 , 5F157BD02 , 5F157BE12 , 5F157BF22 , 5F157BF23 , 5F157BG13 , 5F157BG14 , 5F157BG76 , 5F157BG86 , 5F157BH17 , 5F157CD33 , 5F157DB18

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平4-14222号公報

審査官引用 (9件)

基板洗浄方法、基板洗浄装置、基板処理システム、基板洗浄プログラム及び記憶媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-332080 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-161899 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
異物除去装置、基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-100548 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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