特許

J-GLOBAL ID：201003009843793880

液圧によって促進されるコンタクトリソグラフィ装置、システム及び方法

発明者： ガオ,ジュン ,  ウー,ウェイ ,  ピチオット,カール
出願人/特許権者： ヒューレット-パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.
代理人 (3件)： 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  西山 清春
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-532409
公開番号（公開出願番号）：特表2010-506427
出願日： 2007年10月10日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：

コンタクトリソグラフィ装置100、220、システム200及び方法300は、パターン転写を容易にするために液圧による変形を使用する。これらの装置、システム及び方法は、リソグラフィ要素110、228a、130、228bが近接して隔置されるようにするスペーサ120、226と、液圧による変形をもたらす液圧力部材140,240を含む。リソグラフィ要素とスペーサのうちの1つ以上が変形可能であり、これらの液圧による変形によってパターン転写が容易になる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

コンタクトリソグラフィ装置(100、220)であって、 リソグラフィパターンでパターニングされたエリア(112)を有するパターニングツール(110、228a)と、 パターニングされる基板(130、228b)と、 前記パターニングツール(110、228a)と前記基板(130、228b)との間に配置されたスペーサ(120、226)であって、該スペーサ(120、226)は、前記パターニングツール(110、228a)及び前記基板(130、228b)が前記スペーサ(120、226)と互いに接触しているときに、前記パターニングツール(110、228a)と前記基板(130、228b)とが近接して隔置されるようにする、スペーサと、 前記パターニングツール(110、228a)と前記基板(130、228b)の一方又は両方に隣接する、液圧変形力を加える液圧力部材(140、240) とを備え、 前記パターニングツール(110、228a)、前記基板(130、228b)、前記スペーサ(120、226)のうちの1つ以上が変形可能であり、液圧による変形によってパターン転写が容易になる、コンタクトリソグラフィ装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 502D

Fターム (1件)：

5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 構造物の製造に関する装置および方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-544087   出願人：オブドゥカトアクティエボラーグ
• 流体圧力インプリント・リソグラフィ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-513006   出願人：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.