特許
J-GLOBAL ID：201003011768673126

基板処理装置

発明者：
伊豆田 崇

伊豆田 崇 について

, 
石井 弘晃

石井 弘晃 について

, 
吉住 明日香

吉住 明日香 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  皆川 祐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-278568
公開番号（公開出願番号）：特開2010-109087
出願日： 2008年10月29日
公開日（公表日）： 2010年05月13日
要約：
【課題】基板の汚染を抑制または防止することができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板処理装置は、基板Wを水平に保持するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持された基板Wの中央部上方に配置され、気体吐出口55から基板Wに沿って窒素ガスを放射状に吐出して、基板Wを覆うための窒素ガスの流れを形成する気体吐出ノズル6とを含む。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板の中央部近傍に位置するように配置され、気体吐出口から基板に沿って気体を放射状に吐出することにより、基板を覆うための気体の流れを形成する気体吐出ノズルと、 前記気体吐出ノズルに気体を供給する気体供給手段とを含む、基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133
FI (6件)：
H01L21/304 643Z ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 651L ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500
Fターム (34件)：
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JB04 ,  2H090JC19 ,  5F157AA03 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB49 ,  5F157AB51 ,  5F157AB64 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC26 ,  5F157BB23 ,  5F157BB44 ,  5F157BG13 ,  5F157BG85 ,  5F157BG86 ,  5F157BH21 ,  5F157CB02 ,  5F157CB03 ,  5F157CB14 ,  5F157CB15 ,  5F157CB28 ,  5F157CE25 ,  5F157DB37 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-319889   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理方法および基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-246410   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭57-147465

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