メトロロジーフレーム用のフィードフォワード圧力パルス補償を有するリソグラフィ装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-139706
公開番号（公開出願番号）：特開2010-016369
出願日： 2009年06月11日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：

【課題】装置の物体のそのメトロロジーフレームに対する動きによって引き起こされる圧力パルスの効率的なフィードフォワード補償機構を提供する。【解決手段】投影システムと、振動絶縁支持デバイスISDによって支持されたメトロロジーフレームMFと、移動可能な物体WTと、メトロロジーフレームMF及び/又は投影システムに対する物体WTの位置、速度及び/又は加速度を決定する変位決定ユニットとを含むリソグラフィ装置において、メトロロジーフレームMFに補正力及び/又はトルクを印加する少なくとも1つのアクチュエータFが提供され、メトロロジーフレームMFに対する物体WTの動きに起因するメトロロジーフレームMFに作用する圧力パルスを補償するために、物体WTの決定された位置、速度及び/又は加速度に基づいてメトロロジーフレームMFに印加される補正力及び/又はトルクを計算するように構成された制御装置Cが提供される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターンニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット位置に投影するように構成された投影システムと、振動絶縁支持デバイスによって支持されたメトロロジーフレームと、前記メトロロジーフレームに対して移動可能な物体と、前記メトロロジーフレーム、前記投影システム、あるいはメトロロジーフレームと投影システムの両方に対する物体の位置、速度、加速度、あるいはそれらの任意の組み合わせを決定するように構成されたセンサと、前記メトロロジーフレームに補正力を印加するように構成されたアクチュエータと、前記メトロロジーフレームに対する物体の動きに起因する前記メトロロジーフレームに作用する圧力パルスを補償するために、前記物体の決定された位置、速度、加速度、あるいはそれらの任意の組み合わせに基づいて前記メトロロジーフレームに印加される補正力を計算するように構成された制御装置と、を備えるリソグラフィ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L21/30 503F , H01L21/30 516B , G03F7/20 521 , H01L21/68 K

Fターム (18件)：

5F031CA02 , 5F031HA13 , 5F031HA16 , 5F031HA23 , 5F031HA53 , 5F031MA27 , 5F031NA14 , 5F046AA23 , 5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC04 , 5F046CC13 , 5F046CC16 , 5F046CC18 , 5F046DA07 , 5F046DB04 , 5F046DB05 , 5F046DC12

引用特許：

出願人引用 (6件)

露光装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-095895 出願人：キヤノン株式会社
能動除振装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-223155 出願人：キヤノン株式会社
制振装置及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-299604 出願人：株式会社ニコン

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