特許
J-GLOBAL ID:201003011799497296
微細パターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
龍華国際特許業務法人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-502950
公開番号(公開出願番号):特表2010-523378
出願日: 2008年04月14日
公開日(公表日): 2010年07月15日
要約:
本発明は、微細パターン形成方法に関するものである。本発明による微細パターン形成方法は、(S1)陰刻にパターニングされたハードモールドにクリシェ形成用フィルムを密着させて使い捨てクリシェを製造する段階;(S2)弾性ブランケットシリンダーにインクまたは樹脂を塗布する段階;(S3)前記弾性ブランケットシリンダーを前記使い捨てクリシェに圧着して前記使い捨てクリシェの相対的に突出された陽刻部分と接する部分に塗布された前記弾性ブランケットシリンダー面のインクまたは樹脂を除去する段階;及び(S4)前記弾性ブランケットシリンダー面に残ったインクまたは樹脂を基材に転写させる段階;を含むことを特徴とする。本発明によれば、設置及び除去が容易な使い捨てクリシェを採用することで、工程が単純かつ迅速でありながらも費用を大きく節減することができ、カラーフィルター、電極パターンなどの微細パターンを形成するのに用いることができる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
(S1)陰刻にパターニングされたハードモールドにクリシェ形成用フィルムを密着させて使い捨てクリシェを製造する段階;
(S2)弾性ブランケットシリンダーにインクまたは樹脂を塗布する段階;
(S3)前記弾性ブランケットシリンダーを前記使い捨てクリシェに圧着して前記使い捨てクリシェの相対的に突出された陽刻部分と接する部分に塗布された前記弾性ブランケットシリンダー面のインクまたは樹脂を除去する段階;及び
(S4)前記弾性ブランケットシリンダー面に残ったインクまたは樹脂を基材に転写させる段階;を含んでなることを特徴とする微細パターン形成方法。
IPC (5件):
B41F 3/20
, H01L 21/027
, B41C 1/045
, B41C 1/00
, B41M 1/10
FI (5件):
B41F3/20 D
, H01L21/30 502D
, B41C1/045
, B41C1/00
, B41M1/10
Fターム (19件):
2H084AA03
, 2H084AA30
, 2H084AE05
, 2H084BB02
, 2H084BB04
, 2H084CC03
, 2H084CF03
, 2H113AA04
, 2H113BA03
, 2H113BB22
, 2H113BC10
, 2H113CA17
, 2H113DA47
, 2H113DA57
, 2H113DA64
, 2H113FA29
, 2H113FA42
, 2H113FA48
, 5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)