特許
J-GLOBAL ID：201003014758733057

エマルジョン形成用マイクロチップおよびその製造方法

発明者：
小 澤 裕

小 澤 裕 について

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大 東 良 一

大 東 良 一 について

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藤 本 興 治

藤 本 興 治 について

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竹 内 昌 治

竹 内 昌 治 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (5件)： 吉武 賢次 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  勝沼 宏仁 ,  村田 卓久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-194919
公開番号（公開出願番号）：特開2010-029790
出願日： 2008年07月29日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：
【課題】微小なエマルジョンを生成可能なエマルジョン形成用マイクロチップおよびその製造方法を提供する。【解決手段】エマルジョン形成用マイクロチップ10は、第1ガラス基材11と、第2ガラス基材12と、シリコン基材20とを備えている。シリコン基材20に、第1流体F1が流れる第1流体用流路21と、第1流体F1に混ざり合わない第2流体F2が流れる第2流体用流路22とが形成されている。第1流体用流路21は、合流部30で合流する一対の分岐流路28a、28bを有し、第2流体用流路22は、前記合流部30に連通する。合流部30のうち第2流体用流路22の端部32に対向して形成されたエマルジョン形成流路23において、第1流体用流路21からの第1流体F1により第2流体用流路22からの第2流体F2を囲んでなるエマルジョンEが形成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1ガラス基材と、 第2ガラス基材と、 第1ガラス基材と第2ガラス基材との間に介在されたシリコン基材とを備え、 シリコン基材に、第1流体が流れる第1流体用流路と、第1流体に混ざり合わない第2流体が流れる第2流体用流路とを形成し、 第1流体用流路は、複数の分岐流路を有するとともに、当該複数の分岐流路は合流部で合流し、 第2流体用流路は、前記合流部に連通する端部を有し、 シリコン基材に、合流部のうち第2流体用流路の端部に対向して、第1流体用流路からの第1流体により第2流体用流路からの第2流体を囲んでなるエマルジョンを形成するエマルジョン形成流路が形成されていることを特徴とするエマルジョン形成用マイクロチップ。
IPC (3件)：
B01F 5/00 ,  B01J 13/00 ,  B01J 19/00
FI (3件)：
B01F5/00 D ,  B01J13/00 A ,  B01J19/00 321
Fターム (12件)：
4G035AC01 ,  4G065CA02 ,  4G065GA01 ,  4G075AA13 ,  4G075AA39 ,  4G075BA10 ,  4G075BB05 ,  4G075BD15 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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