特許
J-GLOBAL ID：200903064887815520

エマルションの製造方法および製造装置

発明者：
中嶋 光敏

中嶋 光敏 について

, 
許 晴怡

許 晴怡 について


出願人/特許権者：
独立行政法人食品総合研究所

独立行政法人食品総合研究所 について


代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-393284
公開番号（公開出願番号）：特開2005-152740
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 極めて微細で且つ均一なマイクロスフィアを製造する方法およびその装置を提供する。【解決手段】 基板3は、前記連続相供給孔8と重なる位置に形成される連続相供給口31、前記分散相供給孔9と重なる位置に形成される分散相供給口32、前記エマルション取出孔10と重なる位置に形成されるエマルション取出口33を備え、前記連続相供給口31からは幅が約100μm、深さが約5μmの連続相流路34が下流側に向って形成され、また前記分散相供給口32からは同じく幅が約100μm、深さが約5μmの分散相流路35が下流側に向って形成されている。また、連続相流路34と分散相流路35との合流点の直ぐ下流には縦横約1000μm、深さ約5μmのプール36が形成され、このプール36は流路37を介して前記エマルション取出口33につながっている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
互いに合流するマイクロチャネルの一方に連続相を、他方に分散相を流し、それぞれの流量を制御することで連続相中に分散相のマイクロスフィアを形成する方法であって、前記連続相と分散相とが層流状態で合流した直後に、連続相と分散相の流速を急激に低下せしめることで、連続相中に分散相粒子を顕在化せしめることを特徴とするエマルションの製造方法。
IPC (2件)：
B01F3/08 ,  B01F5/00
FI (3件)：
B01F3/08 A ,  B01F5/00 A ,  B01F5/00 Z
Fターム (3件)：
4G035AB20 ,  4G035AC50 ,  4G035AE02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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