特許
J-GLOBAL ID：201003017475119270
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (21件)：
鈴江 武彦
, 蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 風間 鉄也
, 勝村 紘
, 河井 将次
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-192537
公開番号（公開出願番号）：特開2010-033636
出願日： 2008年07月25日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：
【課題】磁気記録層の表面におけるダメージ層の形成を抑えることができ、磁気的スペーシングを低減してより高記録密度を可能にする磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】磁気記録層上にハードマスクとレジストを形成し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、パターン化されたレジストの凹部に残存している残渣を除去し、パターン化されたレジストをマスクとして、前記ハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、前記レジストを剥離し、イオンビームエッチングにより残存ハードマスクを除去するとともに残存ハードマスクに覆われていない磁気記録層の表面を改質することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
磁気記録層上にハードマスクとレジストを形成し、
前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、
パターン化されたレジストの凹部に残存している残渣を除去し、
パターン化されたレジストをマスクとして、前記ハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、
前記レジストを剥離し、
イオンビームエッチングにより残存ハードマスクを除去するとともに残存ハードマスクに覆われていない磁気記録層の表面を改質する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5D112AA05
, 5D112AA07
, 5D112AA16
, 5D112AA20
, 5D112AA24
, 5D112GA20
