特許
J-GLOBAL ID：201003017746934765

化学増幅型フォトレジスト組成物

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
重松 淳二

重松 淳二 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-245300
公開番号（公開出願番号）：特開2010-134445
出願日： 2009年10月26日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
【課題】良好な解像度、良好なラインエッジラフネス及び良好なパターン倒れ耐性を有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。【解決手段】式(I)で表される酸発生剤及び式(II)で表される構造単位を含む樹脂を含有し、式(I)で表される酸発生剤の含有量が、酸発生剤の全量に対して45〜100重量%であり、樹脂における、式(II)で表される構造単位の含有量が、樹脂の全構造単位に対して35〜70モル%であり、樹脂における、飽和環状炭化水素基を有する構造単位の含有量が、樹脂の全構造単位に対して50〜70モル%であり、樹脂が、互いに異なる4種以上の構造単位を有する樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される酸発生剤及び式(II)で表される構造単位を含む樹脂を含有し、 式(I)で表される酸発生剤の含有量が、酸発生剤の全量に対して45〜100重量%であり、 樹脂における、式(II)で表される構造単位の含有量が、樹脂の全構造単位に対して35〜70モル%であり、 樹脂における、飽和環状炭化水素基を有する構造単位の含有量が、樹脂の全構造単位に対して50〜70モル%であり、 樹脂が、互いに異なる4種以上の構造単位を有する樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (51件)：
2H125AF14P ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA20R ,  4J100BA20S ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA19 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (3件)

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