特許
J-GLOBAL ID：200903044397858203

化学増幅型レジスト組成物

発明者：
高田 佳幸

高田 佳幸 について

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宮川 貴行

宮川 貴行 について

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枝松 邦茂

枝松 邦茂 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 中山 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-323137
公開番号（公開出願番号）：特開2008-170983
出願日： 2007年12月14日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：
【課題】優れた解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、さらに式(I)で表されるラクトン構造を側鎖に有する構造単位を含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式(II)で表される酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、さらに式(I)で表されるラクトン構造を側鎖に有する構造単位を含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式(II)で表される酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/26
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/26
Fターム (33件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC52P ,  4J100BC52R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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