特許
J-GLOBAL ID：200903089749200738
プラズマ発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 文廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-212238
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035697
出願日： 1999年07月27日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：
【要約】【課題】大面積基板のエッチングや薄膜形成等の表面処理を行うのに有用なプラズマ発生装置に関わり、真空容器に絶縁体の隔壁部あるいは天板を設けてその外側に高周波アンテナを設置する従来の誘導結合型プラズマ発生装置では、放電室の径が大きくなるにつれ絶縁体の厚みを大幅に増大させなければならず、高周波電力の利用効率が低下するという問題があった。【解決手段】プラズマ発生装置の真空容器1の内部にアンテナ導体5全体を入れ、絶縁体の隔壁や天板を用いる必要をなくして、アンテナから放射される誘導電界の全てを有効利用できるようにした。またアンテナのインダクタンスを小さくしたり、アンテナ導体を絶縁体で被覆したりして異常放電の発生を抑制し、高密度プラズマの安定化を図っている。
請求項（抜粋）：
高周波放電による誘導結合方式のプラズマ発生装置において、高周波電力を印加して誘導電界を発生させるアンテナを真空容器内に設置したことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H 1/46 L
, H01L 21/302 B
5F004AA06
, 5F004AA16
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004BB18
, 5F004BB23
, 5F004BB30
, 5F004BC08
, 5F004BD01
, 5F004BD04
, 5F004DA23
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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