特許
J-GLOBAL ID：201003019035004776
レーザ光源装置およびレーザ加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-011122
公開番号（公開出願番号）：特開2010-171131
出願日： 2009年01月21日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：
【課題】種光源から任意の繰り返し周波数および任意のパルス幅で出力されるパルス光の出射および出射停止を切換える構成において、出射開始時に、所望のピークパワーを有するパルス光を得ることが可能なレーザ光源装置、およびそのレーザ光源装置を備えるレーザ加工装置を提供する。【解決手段】レーザ光源装置110は、光増幅媒体(光ファイバ1)を含む光増幅器と、種光源としての半導体レーザ2と、励起光源としての半導体レーザ3とを備える。半導体レーザ2は、予め設定された主照射期間にはパルス光を種光として出射し、予備照射期間には、パルス光のピークパワーよりも小さいパワーを有し、かつ実質的な連続光を種光として出射する。半導体レーザ3は、予備照射期間には、主照射期間に比較して励起光のパワーが小さくなるように励起光を発する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
種光と励起光とが入射された場合に前記種光を増幅可能な光増幅媒体を含む光増幅器と、
前記種光としてのレーザ光を発する種光源と、
前記励起光を発する励起光源とを備え、
前記種光源は、予め設定された主照射期間にはパルス光を前記種光として出射する一方、前記主照射期間と異なる予備照射期間には、前記パルス光のピークパワーよりも小さいパワーを有し、かつ実質的な連続光を前記種光として出射し、
前記励起光源は、前記予備照射期間には、前記主照射期間に比較して前記励起光のパワーが小さくなるように前記励起光を発する、レーザ光源装置。
IPC (4件)：
H01S 3/06
, H01S 3/00
, B23K 26/00
, H01S 3/094
H01S3/06 B
, H01S3/00 B
, B23K26/00 A
, B23K26/00 N
, H01S3/094 S
4E068AB00
, 4E068AC00
, 4E068CA02
, 4E068CK01
, 5F172AE03
, 5F172AE12
, 5F172AF02
, 5F172AF06
, 5F172AM04
, 5F172AM08
, 5F172DD03
, 5F172EE15
, 5F172EE19
, 5F172NN22
, 5F172NQ30
, 5F172ZA04
, 5F172ZZ01
