特許
J-GLOBAL ID:200903060234711979
パルス光源装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
酒井 宏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-103378
公開番号(公開出願番号):特開2006-286843
出願日: 2005年03月31日
公開日(公表日): 2006年10月19日
要約:
【課題】安定した増幅光パルス列を出力することができるパルス光源装置を提供すること。【解決手段】電気連続パルス列を発生するパルス発生回路11と、電気連続パルス列を信号光パルス列として光出力する光源10と、希土類添加光ファイバを用いて信号光パルス列を増幅出力する第1段増幅部12および第2段増幅部13とを備え、パルス発生回路11は、電気連続パルス列を発生する際、出力端16から増幅出力される増幅光パルス列のうちの始めの1以上の増幅光パルスが閾値Pth以下の光出力となるように該1以上の増幅光パルスに対応する電気連続パルス列のうちの始めの1以上の電気パルスの出力を低くする制御を行う制御部21を備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
電気連続パルス列を発生するパルス発生手段と、
前記電気連続パルス列を信号光パルス列として光出力する光源と、
希土類添加光ファイバを用いて前記信号光パルス列を増幅出力する増幅手段と、
を備え、
前記パルス発生手段は、前記電気連続パルス列を発生する際、前記増幅手段から増幅出力される増幅光パルス列のうちの始めの1以上の増幅光パルスが所定値以下の光出力となるように該1以上の増幅光パルスに対応する前記電気連続パルス列のうちの始めの1以上の電気パルスの出力を低くする制御を行うことを特徴とするパルス光源装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (8件):
5F172AE12
, 5F172AF06
, 5F172AM08
, 5F172BB02
, 5F172BB34
, 5F172EE13
, 5F172NR30
, 5F172ZZ20
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (12件)
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レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-258126
出願人:株式会社ニコン, 古河電気工業株式会社
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レーザ溶接方法及びレーザ溶接装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-332814
出願人:株式会社日立製作所
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マルチバンチレーザ発生装置及び発生方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-175532
出願人:住友重機械工業株式会社
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-347837
出願人:日本電気株式会社
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特開平2-290090
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-130491
出願人:日本電気株式会社
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-290634
出願人:日本電気株式会社
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レーザマーキング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-000517
出願人:サンクス株式会社
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レーザマーキング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-152537
出願人:サンクス株式会社
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レーザマーキング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-187993
出願人:サンクス株式会社
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透明材料のレーザ加工方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-116767
出願人:セイコーエプソン株式会社
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レーザ加工方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-092255
出願人:セイコーエプソン株式会社
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