特許
J-GLOBAL ID:201003023392778825

露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 吉雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-067214
公開番号(公開出願番号):特開2010-217803
出願日: 2009年03月19日
公開日(公表日): 2010年09月30日
要約:
【課題】 ワークがワーク搬送機構から落下したとしても、ワーク自身やワークステージの部品が傷ついたりすることがないようにするとともに、従来に比べてタクトが長くならない露光装置を提供すること。【解決手段】 ハンドラにより搬送したワークをワークステージに載置し、当該ワークステージに載置したワークに対しマスクを介して光を照射し、上記ワーク上に上記マスクに形成したパターンを露光する露光装置において、ハンドラがワークを搬送する領域であって、ハンドラがワークを搬送する搬送高さ(搬送レベル)からワークステージの吸着テーブルの表面高さまでの間の空間に、ワークステージを横切るワイヤーを張る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ハンドラにより搬送したワークをワークステージに載置し、当該ワークステージに載置したワークに対しマスクを介して光を照射し、上記ワーク上に上記マスクに形成したパターンを露光する露光装置において、 ハンドラがワークを搬送する領域であって、ハンドラがワークを搬送する搬送高さからワークステージの表面高さまでの間の空間に、上記ワークステージを横切ってワイヤーが張られていることを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
G03F 7/20 ,  H05K 3/00
FI (2件):
G03F7/20 501 ,  H05K3/00 H
Fターム (5件):
2H097BA10 ,  2H097DB14 ,  2H097GB00 ,  2H097LA09 ,  2H097LA12
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る