特許
J-GLOBAL ID：201003024472717289
マスクブランク用基板、マスクブランク及びフォトマスク並びにそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
青木 宏義
, 天田 昌行
, 岡田 喜雅
, 菅野 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-204164
公開番号（公開出願番号）：特開2010-039352
出願日： 2008年08月07日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：
【課題】露光装置のマスクステージにチャックした後のマスク基板の平坦度をシミュレーションする必要がなく、しかも露光装置のチャック構造によらず、チャック後の所望の平坦度を実現すること。【解決手段】本発明のマスクブランク用基板は、露光装置のマスクステージにチャックされるフォトマスクのマスクブランク用基板であって、転写パターンを形成する薄膜を設ける側の主表面が、中央部を含む142mm角内の領域における平坦度が0.3μm以下、かつ、中央部で相対的に高く、周縁部で相対的に低くなる凸形状であり、仮想基準基板の132mm角内の領域で球面形状である仮想基準主表面を、前記主表面に対してフィッティングを行ったときの差が40nm以下であることを特徴とする。【選択図】図5(a)
請求項（抜粋）：
露光装置のマスクステージにチャックされるフォトマスクのマスクブランク用基板であって、転写パターンを形成する薄膜を設ける側の主表面が、中央部を含む142mm角の領域における平坦度が0.3μm以下、かつ、中央部で相対的に高く、周縁部で相対的に低くなる凸形状であり、仮想基準基板の132mm角内の領域で球面形状である仮想基準主表面を、前記主表面に対してフィッティングを行ったときの差が40nm以下であることを特徴とするマスクブランク用基板。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2H095BA01
, 2H095BA02
, 2H095BC28
