特許
J-GLOBAL ID：201003071207099687

マスクブランク用基板セットおよびマスクブランクセット

発明者：
田辺 勝

田辺 勝 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (5件)： 青木 宏義 ,  天田 昌行 ,  岡田 喜雅 ,  菅野 亨 ,  溝口 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-256800
公開番号（公開出願番号）：特開2010-085867
出願日： 2008年10月01日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：
【課題】高いフォトマスクの重ね合わせ精度を要求されるフォトマスクに好適な基板セットを提供すること。【解決手段】本発明の基板セットは、露光装置のマスクステージにチャックされるフォトマスクを作製するためのマスクブランクで使用される基板を複数枚セットとしたマスクブランク用基板セットであって、複数枚セットで用いられる基板は、転写パターンを形成する薄膜を設ける側の主表面の形状が中央で相対的に高く、周縁部で相対的に低くなるような凸形状であり、前記主表面の中央部を含む142mm角の領域における平坦度が0.3μm以下であり、基準基板の基準主表面に対してフィティングを行ったときの差が40nm以下であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置のマスクステージにチャックされるフォトマスクを作製するためのマスクブランクで使用される基板を複数枚セットとしたマスクブランク用基板セットであって、前記複数枚セットで用いられる各基板は、転写パターンを形成する薄膜を設ける側の主表面の形状が中央で相対的に高く、周縁部で相対的に低くなるような凸形状であり、前記主表面の中央部を含む142mm角内の領域における平坦度が0.3μm以下であり、基準基板の基準主表面に対して中央部を含む132mm角内の領域でフィッティングを行ったときの差が40nm以下であることを特徴とするマスクブランク用基板セット。
IPC (3件)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027 ,  C23C 14/34
FI (4件)：
G03F1/14 A ,  H01L21/30 514A ,  H01L21/30 502P ,  C23C14/34 H
Fターム (35件)：
2H095BA02 ,  2H095BA05 ,  2H095BC26 ,  2H095BC28 ,  2H095BD02 ,  2H095BE12 ,  4G059AA08 ,  4G059AB03 ,  4G059AB05 ,  4G059AC03 ,  4G059AC04 ,  4G059AC30 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA05 ,  4G059GA12 ,  4K029AA09 ,  4K029AA21 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BA54 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC34 ,  4K029FA01 ,  4K029FA03 ,  4K029HA00 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046CC09 ,  5F046CC11 ,  5F046DA06
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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