特許
J-GLOBAL ID:201003025631902188
ナノダイヤモンドの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (9件):
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 松山 美奈子
, 松田 豊治
, 相馬 貴昌
, 森下 梓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-104824
公開番号(公開出願番号):特開2010-254506
出願日: 2009年04月23日
公開日(公表日): 2010年11月11日
要約:
【課題】工業的規模で安定的にナノダイヤモンドを製造できる方法を提供する。【解決手段】液体中で炭素電極間に放電させることにより、ナノダイヤモンドを生成させる。放電は、不連続放電(典型的にはパルスプラズマ放電)によるものである。放電電流量は2A以上、200A以下であり、パルス間隔は、特に制限されるものではないが、100ミリ秒以下であることが好ましく、50ミリ秒以下であることがより好ましい。使用できる液体(溶媒)としては、特に限定されるものではないが、水、飽和炭化水素、芳香族炭化水素およびアルコール類が好ましい。【選択図】なし
請求項(抜粋):
液体中で炭素電極間に2A以上の電流をパルス放電させる工程を含む、ナノダイヤモンドの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
4G146AA04
, 4G146AB01
, 4G146AC02B
, 4G146AC17B
, 4G146AD23
, 4G146AD26
, 4G146AD40
, 4G146BA01
, 4G146BC16
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特公昭38-016103
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特公昭42-019682
-
特公昭42-019683
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