特許
J-GLOBAL ID:201003027978216902

TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-040513
公開番号(公開出願番号):特開2010-163345
出願日: 2009年02月24日
公開日(公表日): 2010年07月29日
要約:
【課題】EUVL用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高EUVエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなり、かつ超高平滑性を有するTiO2-SiO2ガラスの提供。【解決手段】TiO2含有量が7.5〜12質量%であり、線熱膨張係数が0ppb/°Cとなる温度が40〜110°Cの範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差(σ)が0.03MPa以下であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。【選択図】図1
請求項(抜粋):
TiO2含有量が7.5〜12質量%であり、線熱膨張係数が0ppb/°Cとなる温度が40〜110°Cの範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差(σ)が少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.03MPa以下であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
IPC (5件):
C03C 3/06 ,  C03C 3/076 ,  C03B 20/00 ,  C03B 8/04 ,  H01L 21/027
FI (8件):
C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03B20/00 F ,  C03B8/04 L ,  C03B8/04 R ,  H01L21/30 531A ,  H01L21/30 531M ,  C03B8/04 E
Fターム (76件):
4G014AH14 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062DA07 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB03 ,  4G062FB04 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062NN01 ,  4G062NN29 ,  4G062NN30 ,  4G062NN33 ,  4G062NN40 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DA26 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GD05 ,  5F046GD06 ,  5F046GD10 ,  5F046GD20
引用特許:
審査官引用 (3件)

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