特許
J-GLOBAL ID:201003027978216902
TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
渡辺 望稔
, 三和 晴子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-040513
公開番号(公開出願番号):特開2010-163345
出願日: 2009年02月24日
公開日(公表日): 2010年07月29日
要約:
【課題】EUVL用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高EUVエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなり、かつ超高平滑性を有するTiO2-SiO2ガラスの提供。【解決手段】TiO2含有量が7.5〜12質量%であり、線熱膨張係数が0ppb/°Cとなる温度が40〜110°Cの範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差(σ)が0.03MPa以下であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。【選択図】図1
請求項(抜粋):
TiO2含有量が7.5〜12質量%であり、線熱膨張係数が0ppb/°Cとなる温度が40〜110°Cの範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差(σ)が少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.03MPa以下であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
IPC (5件):
C03C 3/06
, C03C 3/076
, C03B 20/00
, C03B 8/04
, H01L 21/027
FI (8件):
C03C3/06
, C03C3/076
, C03B20/00 F
, C03B8/04 L
, C03B8/04 R
, H01L21/30 531A
, H01L21/30 531M
, C03B8/04 E
Fターム (76件):
4G014AH14
, 4G062AA04
, 4G062BB02
, 4G062CC07
, 4G062DA07
, 4G062DA08
, 4G062DB01
, 4G062DC01
, 4G062DD01
, 4G062DE01
, 4G062DF01
, 4G062EA01
, 4G062EA10
, 4G062EB01
, 4G062EC01
, 4G062ED01
, 4G062EE01
, 4G062EF01
, 4G062EG01
, 4G062FA01
, 4G062FB03
, 4G062FB04
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK01
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062HH20
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ07
, 4G062JJ10
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062KK10
, 4G062MM02
, 4G062NN01
, 4G062NN29
, 4G062NN30
, 4G062NN33
, 4G062NN40
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046CB03
, 5F046CB25
, 5F046DA12
, 5F046DA26
, 5F046GA03
, 5F046GA14
, 5F046GB01
, 5F046GD05
, 5F046GD06
, 5F046GD10
, 5F046GD20
引用特許:
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