特許
J-GLOBAL ID:200903032850505920

TiO2を含有するシリカガラスおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-072762
公開番号(公開出願番号):特開2005-104820
出願日: 2004年03月15日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiO2を含有するシリカガラスの提供。【解決手段】フッ素を100ppm以上含有し、仮想温度が1200°C以下であり、0〜100°Cでの熱膨張係数が0±200ppb/°Cであることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材として多孔質ガラス体を形成する工程と、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、アニール処理を行う工程とを含むTiO2を含有するシリカガラスの製造方法。【選択図】図2
請求項(抜粋):
仮想温度が1200°C以下であり、F濃度が100ppm以上であり、かつ0〜100°Cでの熱膨張係数が0±200ppb/°Cであることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
IPC (6件):
C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/112 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027
FI (6件):
C03C3/06 ,  C03B8/04 P ,  C03B20/00 F ,  C03C3/112 ,  G03F1/16 A ,  H01L21/30 531M
Fターム (61件):
2H095BA10 ,  2H095BC27 ,  4G014AH14 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062DA07 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB03 ,  4G062FB04 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE02 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062NN30 ,  5F046GD03 ,  5F046GD10
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)
引用文献:
出願人引用 (2件)
  • STABILIZATION TIME OF QUARTZ GLASSES AND DEVITRIFIED GLASSES
  • 高純度シリカの応用技術, 19910301, p.95

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