TiO2を含有するシリカガラスおよびその製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-065275
公開番号（公開出願番号）：特開2005-022954
出願日： 2004年03月09日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiO2を含有するシリカガラスの提供。【解決手段】多孔質ガラス体を形成する工程と透明ガラス体を得る工程と成形ガラス体を得る工程とアニール処理を行う工程とからなるTiO2を含有するシリカガラスの製造方法および仮想温度が1200°C以下であり、OH基濃度が600ppm以下であり、0〜100°Cでの熱膨張係数が0±200ppb/°Cであることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

仮想温度が1200°C以下であり、OH基濃度が600ppm以下であり、かつ0〜100°Cでの熱膨張係数が0±200ppb/°Cであることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。

IPC (4件)：

C03C3/06 , C03B20/00 , C03C3/076 , H01L21/027

FI (4件)：

C03C3/06 , C03B20/00 F , C03C3/076 , H01L21/30 531A

Fターム (58件)：

4G014AH21 , 4G062AA04 , 4G062BB01 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FB03 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM27 , 4G062NN30 , 5F046GB01 , 5F046GD10

引用特許：

出願人引用 (5件)

米国特許出願公開第2002/157421号明細書
合成石英ガラスおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-307783 出願人：旭硝子株式会社
合成石英ガラスの熱処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-309507 出願人：住友金属工業株式会社

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審査官引用 (3件)

合成石英ガラスおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-307783 出願人：旭硝子株式会社
合成石英ガラスの熱処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-309507 出願人：住友金属工業株式会社
光学用合成石英ガラス、その製造方法およびエキシマレーザー用光学部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-036597 出願人：信越石英株式会社, 信越化学工業株式会社

引用文献：

出願人引用 (2件)

STABILIZATION TIME OF QUARTZ GLASSES AND DEVITRIFIED GLASSES
高純度シリカの応用技術, 19910301, p.95

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