特許
J-GLOBAL ID:200903014277631136

TiO2を含有するシリカガラスおよびその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-065275
公開番号(公開出願番号):特開2005-022954
出願日: 2004年03月09日
公開日(公表日): 2005年01月27日
要約:
【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiO2を含有するシリカガラスの提供。【解決手段】多孔質ガラス体を形成する工程と透明ガラス体を得る工程と成形ガラス体を得る工程とアニール処理を行う工程とからなるTiO2を含有するシリカガラスの製造方法および仮想温度が1200°C以下であり、OH基濃度が600ppm以下であり、0〜100°Cでの熱膨張係数が0±200ppb/°Cであることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。【選択図】図1
請求項(抜粋):
仮想温度が1200°C以下であり、OH基濃度が600ppm以下であり、かつ0〜100°Cでの熱膨張係数が0±200ppb/°Cであることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
IPC (4件):
C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03C3/076 ,  H01L21/027
FI (4件):
C03C3/06 ,  C03B20/00 F ,  C03C3/076 ,  H01L21/30 531A
Fターム (58件):
4G014AH21 ,  4G062AA04 ,  4G062BB01 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB03 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM27 ,  4G062NN30 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 米国特許出願公開第2002/157421号明細書
審査官引用 (3件)

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