特許
J-GLOBAL ID：201003028044690657
リソグラフィ用のマスクの製造方法、表面加工方法、光学素子成形用の金型の製造方法および光学素子の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古部 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-224338
公開番号（公開出願番号）：特開2010-060681
出願日： 2008年09月02日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：
【課題】曲面上においても露光を行うことができるリソグラフィ用のマスクを製造する方法を提供する。【解決手段】表面形状の少なくとも一部が曲面である被加工物の表面を加工するために用いられるリソグラフィ用のマスクを製造する方法であって、リソグラフィを行う際に照射する光を透過しポリエチレンテレフタレート(PET)等からなる基板としての透明フィルム11に遮光層としての所定のパターンを有するニッケル膜14を形成する工程と、ニッケル膜14が形成された透明フィルム11を押圧することにより変形させ、被加工物の表面の少なくとも一部の形状に沿う形状にする工程と、を含むリソグラフィ用のマスク10の製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面形状の少なくとも一部が曲面である被加工物の当該表面を加工するために用いられるリソグラフィ用のマスクを製造する方法であって、
前記リソグラフィを行う際に照射する光を透過する基板に所定のパターンを有する遮光層を形成する工程と、
前記遮光層が形成された前記基板を押圧することにより変形させ、前記被加工物の前記表面の少なくとも一部の形状に沿う形状にする工程と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ用のマスクの製造方法。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, C03B 11/08
, G03F 7/20
, G02B 1/11
, G03F 7/24
G03F1/08 A
, C03B11/08
, G03F7/20 501
, G02B1/10 A
, G03F7/24 Z
2H095BA12
, 2H095BB06
, 2H095BB26
, 2H095BB31
, 2H095BC05
, 2H095BC27
, 2H097GA31
, 2H097JA02
, 2H097LA20
, 2K009AA02
, 2K009AA12
, 2K009BB02
, 2K009CC34
, 2K009DD12
, 2K009DD15
