特許
J-GLOBAL ID:201003028647073490

脱硝装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉岡 宏嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-009049
公開番号(公開出願番号):特開2010-162520
出願日: 2009年01月19日
公開日(公表日): 2010年07月29日
要約:
【課題】 塩素や塩素化合物以外の物質でも、脱硝用の触媒で排ガス中の水銀を酸化することができる脱硝装置を実現する。【解決手段】 少なくとも窒素酸化物と水銀を含む排ガスが通流する煙道7内に脱硝剤を注入する脱硝剤注入手段と、煙道7内に臭素とヨウ素の少なくとも一方を含む薬剤を注入する薬剤注入手段と、脱硝剤及び薬剤を含む排ガスが導入され、窒素酸化物を脱硝剤で還元する反応及び水銀を薬剤で酸化して臭化水銀又はヨウ化水銀の少なくとも一方を生成する反応を促進する触媒層11を備えてなる脱硝装置。【選択図】図1
請求項(抜粋):
少なくとも窒素酸化物と水銀を含む排ガスが通流する煙道内に脱硝剤を注入する脱硝剤注入手段と、前記煙道内に臭素とヨウ素の少なくとも一方を含む薬剤を注入する薬剤注入手段と、前記脱硝剤及び前記薬剤を含む排ガスが導入され、前記窒素酸化物を前記脱硝剤で還元する反応及び前記水銀を前記薬剤で酸化して臭化水銀又はヨウ化水銀の少なくとも一方を生成する反応を促進する触媒層を備えてなる脱硝装置。
IPC (2件):
B01D 53/94 ,  B01D 53/86
FI (2件):
B01D53/36 101A ,  B01D53/36 Z
Fターム (11件):
4D048AA06 ,  4D048AA30 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AC05 ,  4D048CC33 ,  4D048CC61 ,  4D048DA01 ,  4D048DA02 ,  4D048DA09 ,  4D048DA10
引用特許:
審査官引用 (7件)
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