特許
J-GLOBAL ID：201003028669837168

ソルダーレジストフィルム、レジストパターン形成方法および発光装置

発明者：
村上 滋

村上 滋 について

, 
鈴木 輝美

鈴木 輝美 について


出願人/特許権者：
ニチゴー・モートン株式会社

ニチゴー・モートン株式会社 について


代理人 (1件)： 米田 圭啓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-204073
公開番号（公開出願番号）：特開2010-020264
出願日： 2008年08月07日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】 ソルダーレジストインクから形成されたレジスト膜と同等以上に発光ダイオードの反射率を高めることができるとともに、表面平坦性やレジスト硬化・現像性に優れるレジストフィルムを提供すること。【解決手段】下記(1)の処理を行った後の色差計反射モードでの測定において、波長430〜700nmの間で10nmおきに測定した分光反射率がすべて65%以上であるレジスト層を有することを特徴とするソルダーレジストフィルムである。 (1)全面に35μm厚の銅箔を有する1.6mm厚のFR-4銅張積層板をバフ研磨#600次いで#1000で1回ずつ整面した後、真空ラミネータでソルダーレジストフィルムをラミネートする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記(1)の処理を行った後の色差計反射モードでの測定において、波長430〜700nmの間で10nmおきに測定した分光反射率がすべて65%以上であるレジスト層を有することを特徴とするソルダーレジストフィルム。 (1)全面に35μm厚の銅箔を有する1.6mm厚のFR-4銅張積層板をバフ研磨#600次いで#1000で1回ずつ整面した後、真空ラミネータでソルダーレジストフィルムをラミネートする。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/38 ,  H05K 3/28
FI (6件)：
G03F7/004 512 ,  G03F7/40 501 ,  G03F7/029 ,  G03F7/033 ,  G03F7/38 511 ,  H05K3/28 F
Fターム (40件)：
2H025AA04 ,  2H025AA18 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC43 ,  2H025BC49 ,  2H025CA02 ,  2H025CA05 ,  2H025CA35 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CC04 ,  2H025CC08 ,  2H025CC12 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA09 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  5E314AA27 ,  5E314AA33 ,  5E314BB02 ,  5E314BB11 ,  5E314CC15 ,  5E314DD07 ,  5E314FF05 ,  5E314FF19 ,  5E314GG24
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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