特許

J-GLOBAL ID：201003030459175868

酸化ケイ素ゲル体膜、透明導電性膜および透明導電性膜積層基板並びにそれらの製造方法

発明者： 柿原 康男
出願人/特許権者： 戸田工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-324354
公開番号（公開出願番号）：特開2010-143802
出願日： 2008年12月19日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：

【課題】高透過率かつ高導電性を有し、表面が平坦であり耐熱性に優れた金属微粒子で構成される網目状構造物を含有する透明導電性膜および前記透明導電性膜積層基板とその製造方法を提供する。【解決手段】金属微粒子において、Au、Ag、Cu、Pt、Pd、Fe、Co、Ni、Al、In、Snの金属あるいは前記金属を2種類以上含む合金を加熱焼成して得られる酸化ケイ素ゲル体膜を主成分とし、金属微粒子で構成される網目状構造物が内包されたことを特徴とする透明導電性膜及び透明導電性膜積層基板である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

金属微粒子で構成される網目状構造物を内包し、ポリシラザンを主成分とすることを特徴とする酸化ケイ素ゲル体膜。

IPC (3件)：

C01B 33/113 ,  H01B 13/00 ,  H01B 5/14

FI (3件)：

C01B33/113 Z ,  H01B13/00 503B ,  H01B5/14 A

Fターム (23件)：

4G072AA24 ,  4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072AA38 ,  4G072BB09 ,  4G072CC10 ,  4G072FF01 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP05 ,  4G072UU02 ,  4G072UU30 ,  5G307FA01 ,  5G307FB02 ,  5G307FC02 ,  5G307FC06 ,  5G307FC09 ,  5G323BA01 ,  5G323BB01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 導電性基板およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-013502   出願人：東レ株式会社
• 導電性及び透明性を有するナノ被覆物及びナノインクの製造方法、並びにこの製造方法により製造されるナノ粉末被覆物及びインク
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-513389   出願人：ナノパウダーズインダストリーズリミテッド
• 透明導電膜の製造方法、透明導電膜および塗布液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-052012   出願人：旭硝子株式会社