特許

J-GLOBAL ID：201003031489417935

転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型

発明者： 谷口 淳 ,  好野 則夫
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-206479
公開番号（公開出願番号）：特開2010-087500
出願日： 2009年09月07日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：

【課題】微細パターンを破壊せずに被転写材料と母型との剥離を容易に行うことができ、母型の転写パターンが被転写材料に良好に転写され、しかも繰り返しの転写において母型の耐久性を長期間にわたって維持して転写構造体を製造する方法およびそれに用いる母型を提供する。【解決手段】表面に転写パターンが形成された母型の表面に下記(I)で表されるシランカップリング剤の膜を形成し、被転写材料を付与して母型の表面のパターンを転写させ、被転写材料を母型から剥離させて被転写材料からなる転写構造体を得る。式(I)中、nは8、10、12、又は14の整数を示し、mは3又は4の整数を示し、X、Y、Zは、それぞれ独立してメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、又はハロゲン原子を表す加水分解性基である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

表面に転写パターンが形成された母型の表面に、下記一般式(I)で表されるビフェニルアルキル鎖を有するシランカップリング剤の膜を形成する工程と、 前記シランカップリング剤の膜が形成された母型の表面に被転写材料を付与して前記母型の表面のパターンを転写させる工程と、 前記被転写材料を前記母型から剥離させて前記被転写材料からなる転写構造体を得る工程と、 を含むことを特徴とする転写構造体の製造方法。

IPC (1件)：

H05K 3/20

FI (1件)：

H05K3/20 B

Fターム (8件)：

5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343BB23 ,  5E343DD23 ,  5E343DD56 ,  5E343DD63 ,  5E343ER52 ,  5E343GG11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 微細パターンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-126651   出願人：松下電器産業株式会社
• 耐熱性シランカップリング剤、およびそれらの化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-273200   出願人：好野則夫