特許
J-GLOBAL ID：201003032361059072

酸化パルプ中に残留する有機系酸化触媒の除去方法

発明者：
宮脇 正一

宮脇 正一 について

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勝川 志穂

勝川 志穂 について

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阿部 裕

阿部 裕 について

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飯嶋 夕子

飯嶋 夕子 について

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磯貝 明

磯貝 明 について


出願人/特許権者：
日本製紙株式会社

日本製紙株式会社 について


代理人 (7件)： 小野 新次郎 ,  社本 一夫 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  松山 美奈子 ,  小笠原 有紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-082377
公開番号（公開出願番号）：特開2010-236106
出願日： 2009年03月30日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：
【課題】N-オキシル化合物を酸化触媒として得られた酸化パルプから、残留するN-オキシル化合物を効率良く除去できる方法を提供する。【解決手段】酸化パルプをpH3〜10の条件下で50°C以上120°C以下の温度に加熱紙た後に水洗することにより、酸化パルプ中に残留するN-オキシル化合物を除去する。こうして得られたN-オキシル化合物含量の少ない酸化パルプを用いることにより、N-オキシル化合物含量の少ないセルロースナノファイバーを調製することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(1)N-オキシル化合物、及び、(2)臭化物、ヨウ化物、若しくはこれらの混合物の存在下で、酸化剤を用いてセルロース系原料を酸化して得られた酸化パルプから、N-オキシル化合物を除去する方法であって、該酸化パルプを、pH3〜10の条件下で、50°C以上120°C以下に加熱し、次いで水洗することを含む、N-オキシル化合物の除去方法。
IPC (2件)：
D01F 2/00 ,  D21H 11/20
FI (2件)：
D01F2/00 ,  D21H11/20
Fターム (9件)：
4L035BB46 ,  4L035DD13 ,  4L035FF01 ,  4L055AA02 ,  4L055AC08 ,  4L055AG07 ,  4L055BB03 ,  4L055CB13 ,  4L055FA22
引用特許：
審査官引用 (4件)
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