特許

J-GLOBAL ID：201003032713670281

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 近藤 大介 ,  三枝 浩 ,  岩戸 薫 ,  平野 修史 ,  飯塚 裕介 ,  山口 修平
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (20件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-099437
公開番号（公開出願番号）：特開2010-250076
出願日： 2009年04月15日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】コーナー・プロキシミティ(Corner proximity)が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、および、(D)下記一般式(1)で表される含窒素ヘテロ環を有する含窒素有機化合物を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。(一般式(1)の各符号は明細書に記載の意味を有する。)【化1】【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、および、(D)下記一般式(1)で表される含窒素ヘテロ環を有する含窒素有機化合物を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/26 ,  C08F 32/00

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/26 ,  C08F32/00

Fターム (83件)：

2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA34P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07S ,  4J100AJ02S ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL24Q ,  4J100AL26P ,  4J100AL26R ,  4J100AM14Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA15S ,  4J100BA40Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BA72P ,  4J100BA72R ,  4J100BA80P ,  4J100BA81P ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC43Q ,  4J100BC52P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 含窒素有機化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-289489   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-198897   出願人：富士フイルム株式会社