特許
J-GLOBAL ID：200903053510209496

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
神田 博美

神田 博美 について

, 
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-198897
公開番号（公開出願番号）：特開2007-304537
出願日： 2006年07月21日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも1つ含有する含フッ素化合物、および(F)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。(x)アルカリ可溶性基、(y)アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、(z)酸の作用により分解する基。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも1つ含有する含フッ素化合物、および (x)アルカリ可溶性基、 (y)アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、 (z)酸の作用により分解する基、 (F)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 504 ,  H01L21/30 502R
Fターム (20件)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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