特許
J-GLOBAL ID：201003033792911848

触媒製造方法

発明者：
ビーララガバン,バドリ

ビーララガバン,バドリ について

, 
ウッド,トーマス イー.

ウッド,トーマス イー. について

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チャンバーレイン,クレイグ エス.

チャンバーレイン,クレイグ エス. について

, 
バナッセ,シェリル エー.

バナッセ,シェリル エー. について


出願人/特許権者：
スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー

スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー について


代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  小林 良博 ,  蛯谷 厚志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-521927
公開番号（公開出願番号）：特表2010-536556
出願日： 2008年08月12日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：
金系の不均質触媒系を製造するための方法は、酸化雰囲気中で物理的気相堆積法によりナノ粒子状支持媒質上に微細ナノスケール金を堆積させることを含む。
請求項（抜粋）：
酸化雰囲気中で物理的気相堆積法によりナノ粒子状支持媒質上に微細ナノスケール金を堆積させることを含む方法。
IPC (4件)：
B01J 37/02 ,  B01J 23/52 ,  B01D 53/86 ,  C23C 14/14
FI (4件)：
B01J37/02 301P ,  B01J23/52 A ,  B01D53/36 C ,  C23C14/14 D
Fターム (35件)：
4D048AA13 ,  4D048AB01 ,  4D048BA05X ,  4D048BA07X ,  4D048BA34X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048CA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC33A ,  4G169BC33B ,  4G169CA07 ,  4G169CA14 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB19 ,  4G169FB02 ,  4G169FB58 ,  4K029AA04 ,  4K029AA22 ,  4K029AA24 ,  4K029BA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  4K029JA02
引用特許：
審査官引用 (8件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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