特許

J-GLOBAL ID：201003033995002320

選択的な光透過特性を有する金属薄膜複合体およびその製造方法

発明者： 中 西 務 ,  堤 栄 史 ,  藤 本 明 ,  北 川 良 太 ,  益 永 く み ,  浅 川 鋼 児
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (4件)： 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-000988
公開番号（公開出願番号）：特開2010-160212
出願日： 2009年01月06日
公開日（公表日）： 2010年07月22日
要約：

【課題】波長選択性に優れた光透過特性を有する光透過金属薄膜複合体およびその製造方法の提供。【解決手段】本発明によれば、基板と、前記基板表面上に形成された第一および第二の金属薄膜を具備する光透過性金属薄膜複合体と、その製造法が提供される。ここで、前記第一の金属薄膜は前記金属薄膜を貫通する複数の開口部を有し、前記開口部の開口径が透過光の最大ピーク波長以下であり、かつ前記第二の金属薄膜は、前記開口部内側に、前記第一の金属薄膜と空間的に離れて形成されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板表面上に形成された第一および第二の金属薄膜を具備する光透過性金属薄膜複合体であって、 前記第一の金属薄膜が前記金属薄膜を貫通する複数の開口部を有し、前記開口部の開口径が透過光の最大ピーク波長以下であり、 前記第二の金属薄膜が、前記開口部内側に、前記第一の金属薄膜と空間的に離れて形成されていることを特徴とする光透過性金属薄膜複合体。

IPC (2件)：

G02B 5/20 ,  G02F 1/01

FI (2件)：

G02B5/20 101 ,  G02F1/01 F

Fターム (13件)：

2H048BA01 ,  2H048BA47 ,  2H048BA64 ,  2H048BB42 ,  2H079AA02 ,  2H079AA08 ,  2H079AA13 ,  2H079BA04 ,  2H079CA07 ,  2H079EB12 ,  2H079EB17 ,  2H079JA01 ,  2H079JA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 視点位置検出方法及び検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-231962   出願人：日本電気株式会社
• 波長以下の径の貫通孔を有する金属薄膜を利用する光透過制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-099149   出願人：日本電気株式会社

審査官引用 (4件)

• 高光透過開口アレイ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-177513   出願人：日本電気株式会社
• 光ヘッド、光磁気ヘッド、ディスク装置、および光ヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-376777   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-001725   出願人：株式会社東芝
• 波長以下の径の貫通孔を有する金属薄膜を利用する光透過制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-099149   出願人：日本電気株式会社