特許
J-GLOBAL ID：201003034323549310

光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置

発明者：
堀尾 智之

堀尾 智之 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (3件)： 安富 康男 ,  諸田 勝保 ,  松田 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-223710
公開番号（公開出願番号）：特開2010-060643
出願日： 2008年09月01日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：
【課題】優れたアンチブロッキング性を有するとともに、優れた帯電防止性及び光透過性等の光学特性を有し、干渉縞が発生せず外観が良好である光学積層体を提供する。【解決手段】光透過性基材上に、帯電防止剤を含むハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、上記光透過性基材が位置する側と反対側の表面に凹凸形状を有し、上記凹凸形状は、JIS B 0601-1994に準拠した十点平均粗さRzが15〜100nmである光学積層体。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
光透過性基材上に、帯電防止剤を含むハードコート層を有する光学積層体であって、 前記ハードコート層は、前記光透過性基材が位置する側と反対側の表面に凹凸形状を有し、 前記凹凸形状は、JIS B 0601-1994に準拠した十点平均粗さRzが15〜100nmである ことを特徴とする光学積層体。
IPC (4件)：
G02B 1/10 ,  G02B 5/30 ,  B32B 7/02 ,  G02F 1/133
FI (5件)：
G02B1/10 Z ,  G02B5/30 ,  B32B7/02 103 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1335 510
Fターム (50件)：
2H149AA01 ,  2H149AB17 ,  2H149BA02 ,  2H149CA02 ,  2H149EA12 ,  2H149FA02X ,  2H149FC03 ,  2H149FC04 ,  2H149FD22 ,  2H149FD25 ,  2H149FD44 ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA94X ,  2H191FA94Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB22 ,  2H191FC01 ,  2H191FC21 ,  2H191FC42 ,  2H191GA22 ,  2H191HA09 ,  2H191KA10 ,  2H191LA02 ,  2H191LA07 ,  2H191LA28 ,  2H191LA40 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  2K009EE03 ,  4F100AJ06A ,  4F100AK25 ,  4F100AK51 ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CA22B ,  4F100CC00B ,  4F100DD07B ,  4F100EH46B ,  4F100JA07B ,  4F100JB14 ,  4F100JG03 ,  4F100JK12B ,  4F100JL00 ,  4F100JN01A ,  4F100YY00B
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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