特許
J-GLOBAL ID：201003036119441030
反射防止膜の成膜方法及び反射防止膜並びに成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 鈴木 慎吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-209208
公開番号（公開出願番号）：特開2010-043334
出願日： 2008年08月15日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：
【課題】酸化亜鉛系ターゲットを使用し、酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される2種または3種を含む反応性ガス中の各々のガスの比を変化させてスパッタすることにより、屈折率の異なる複数の屈折率層を積層し、所望の反射防止性能を得ることが可能な酸化亜鉛系の反射防止膜の成膜方法及び反射防止膜並びに成膜装置を提供する。【解決手段】本発明の反射防止膜の成膜方法は、ガス導入手段35を用いて、成膜室23内を酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される2種または3種を含む第1の反応性ガス雰囲気として第1の酸化亜鉛系薄膜を成膜し、次いで、この成膜室23内を酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される2種または3種を含みかつ第1の反応性ガスと異なる組成の第2の反応性ガス雰囲気として第1の酸化亜鉛系薄膜上に第2の酸化亜鉛系薄膜を成膜する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
第1の酸化亜鉛系薄膜上に第2の酸化亜鉛系薄膜を積層してなる反射防止膜の成膜方法であって、
酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される2種または3種を含む第1の反応性ガス中にて第1の酸化亜鉛系ターゲットを用いたスパッタリングにより、第1の酸化亜鉛系薄膜を成膜する第1の成膜工程と、
前記第1の酸化亜鉛系薄膜上に、酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される2種または3種を含みかつ前記第1の反応性ガスと異なる組成の第2の反応性ガス中にて第2の酸化亜鉛系ターゲットを用いたスパッタリングにより、第2の酸化亜鉛系薄膜を成膜する第2の成膜工程と、
を有することを特徴とする反射防止膜の成膜方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (13件)：
2K009AA02
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 4K029AA24
, 4K029BA49
, 4K029BB02
, 4K029CA06
, 4K029DA08
, 4K029DC05
, 4K029DC15
, 4K029DC39
, 4K029EA05
, 4K029JA02
出願人引用 (2件)
-
反射防止膜付基板
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-272172
出願人：双葉電子工業株式会社
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多層反射防止膜
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-239371
出願人：キヤノン株式会社
審査官引用 (2件)
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