特許

J-GLOBAL ID：201003038345103159

反射防止膜形成材料、反射防止膜及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： 橘 誠一郎 ,  野田 和美 ,  渡辺 武 ,  畠山 潤 ,  金生 剛
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-316645
公開番号（公開出願番号）：特開2010-139822
出願日： 2008年12月12日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：

【課題】従来と同じプロセスで成膜可能で、その反射防止膜は効果的に露光光の反射を防止し、更に、高いドライエッチング速度を兼ね備え、微細パターン形成に有用である有機反射防止形成材料を提供する。【解決手段】一般式(1)で示される繰り返し単位を1種以上有し、露光波長における消光係数(k値)が0.01〜0.4、屈折率(n値)が1.4〜2.1の範囲の高分子化合物(A)と、芳香環を有し、露光波長における消光係数(k値)が0.3〜1.2の範囲の高分子化合物(B)とをそれぞれ1種以上含有する反射防止膜形成材料。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される繰り返し単位を1種以上有し、露光波長における消光係数(k値)が0.01〜0.4、屈折率(n値)が1.4〜2.1の範囲の高分子化合物(A)と、芳香環を有し、露光波長における消光係数(k値)が0.3〜1.2の範囲の高分子化合物(B)とをそれぞれ1種以上含有することを特徴とする反射防止膜形成材料。

IPC (3件)：

G03F 7/11 ,  C08L 33/16 ,  C08L 101/02

FI (3件)：

G03F7/11 503 ,  C08L33/16 ,  C08L101/02

Fターム (29件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB30 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA29 ,  4J002AA03X ,  4J002BC02X ,  4J002BG08W ,  4J002CC02X ,  4J002CH06X ,  4J002GP03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3414107号公報
  
• 反射防止被膜形成組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-227990   出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (2件)

• 反射防止膜材料およびこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-002269   出願人：信越化学工業株式会社
• トリアジン化合物を含む反射防止組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-544764   出願人：ブルーワーサイエンスアイエヌシー.