特許
J-GLOBAL ID：201003040027057843

エッチング残留物を除去するための、過酸化物によって活性化されたオキソメタレートベース調合物

発明者：
ウェストウッド, グレン

ウェストウッド, グレン について


出願人/特許権者：
マリンクロット ベーカー, インコーポレイテッド

マリンクロット ベーカー, インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 大塩 竹志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-549586
公開番号（公開出願番号）：特表2010-518242
出願日： 2008年01月28日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
(a)水と、(b)アルカリ性pHの最終調合物を産生するのに十分な量の、少なくとも1つの無金属イオン塩基と、(c)少なくとも1つの水溶性無金属イオンケイ酸塩腐食防止剤約0.01〜約5重量%(%SiO2として表される)と、(d)少なくとも1つの金属キレート剤約0.01〜約10重量%と、(e)少なくとも1つのオキシメタレート0超〜約2.0重量%とを含む、高アルカリ性水性調合物が本発明によって提供される。このような調合物は過酸化物と化合されて、ペルオキシメタラートが形成され、マイクロ電子洗浄組成物が産生される。マイクロ電子デバイス、たとえばマイクロ電子基材から汚染物質および残留物を除去するために使用される。
請求項（抜粋）：
(a)水と、(b)アルカリ性pHを有する最終調合物を産生するのに十分な量の、少なくとも1つの無金属イオン塩基と、(c)少なくとも1つの水溶性の無金属イオンケイ酸塩腐食防止剤約0.01〜約5重量%(%SiO2として表される)と、(d)少なくとも1つの金属キレート剤約0.01〜約10重量%と、(e)少なくとも1つのオキソメタレート0超〜約2.0重量%とを含む、過酸化物と化合してマイクロ電子デバイスを洗浄するためのアルカリ性水性調合物。
IPC (5件)：
C11D 7/10 ,  C11D 7/14 ,  C11D 7/18 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
C11D7/10 ,  C11D7/14 ,  C11D7/18 ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/30 572B
Fターム (31件)：
4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  4H003EA07 ,  4H003EA15 ,  4H003EB13 ,  4H003EB19 ,  4H003ED02 ,  4H003EE04 ,  4H003FA07 ,  4H003FA28 ,  5F046MA02 ,  5F157AA09 ,  5F157AA63 ,  5F157AA64 ,  5F157AA65 ,  5F157BC03 ,  5F157BC07 ,  5F157BC54 ,  5F157BD03 ,  5F157BD09 ,  5F157BE12 ,  5F157BE22 ,  5F157BE52 ,  5F157BE56 ,  5F157BE57 ,  5F157BF39 ,  5F157CE04 ,  5F157CE36 ,  5F157DB03 ,  5F157DB57
引用特許：
審査官引用 (11件)
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