特許

J-GLOBAL ID：201003040857044930

イオン液体を用いた試料の処理方法及び処理システム

発明者： 小塚 心尋
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (2件)： 井島 藤治 ,  鮫島 信重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-185608
公開番号（公開出願番号）：特開2010-025656
出願日： 2008年07月17日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：

【課題】本発明はイオン液体を用いた試料の処理方法及び処理システムに関し、大気中を搬送しても試料表面が大気に曝されないようにすることができるイオン液体を用いた試料の処理方法及び処理システムを提供することを目的としている。【解決手段】イオンビーム加工装置等の真空中で試料2に加工処理を施し、加工処理が施された試料2にイオン液体を塗布し、イオン液体が塗布された試料2を電子顕微鏡等の予備排気室8に搬送し、該予備排気室8でイオン液体を除去し、該イオン液体が除去された試料2を電子顕微鏡本体で観察するように構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

イオンビーム加工装置等の真空中で試料に加工処理を施し、 加工処理が施された試料にイオン液体を塗布し、 イオン液体が塗布された試料を電子顕微鏡等の予備排気室に搬送し、 該予備排気室でイオン液体を除去し、 該イオン液体が除去された試料を電子顕微鏡本体で観察する、 ことを特徴とするイオン液体を用いた試料の処理方法。

IPC (5件)：

G01N 1/28 ,  G01N 23/04 ,  H01J 37/20 ,  G01N 23/225 ,  G01N 1/00

FI (6件)：

G01N1/28 F ,  G01N23/04 ,  H01J37/20 G ,  H01J37/20 Z ,  G01N23/225 ,  G01N1/00 101C

Fターム (32件)：

2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001BA06 ,  2G001BA07 ,  2G001BA11 ,  2G001BA15 ,  2G001CA03 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001PA00 ,  2G001PA07 ,  2G001QA01 ,  2G001QA10 ,  2G001RA04 ,  2G001RA08 ,  2G001RA10 ,  2G001RA20 ,  2G052AA11 ,  2G052AD32 ,  2G052AD52 ,  2G052CA05 ,  2G052DA33 ,  2G052EC14 ,  2G052EC18 ,  2G052FD06 ,  2G052GA34 ,  2G052GA35 ,  2G052JA02 ,  5C001BB07 ,  5C001CC01 ,  5C001CC04 ,  5C001DD01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 微細構造を改修するためのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-116316   出願人：エフ・イ-・アイ・カンパニー
• 分離方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-025480   出願人：新日鐵化学株式会社
• 試料搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-073266   出願人：日本電子株式会社