ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-178437
公開番号（公開出願番号）：特開2010-217855
出願日： 2009年07月30日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：

【課題】レジスト材料の溶解性に優れたポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤を含有する有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物;第一のレジストパターンが形成された支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程と、前記第二のレジスト膜を選択的に露光し、アルカリ現像してレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、前記有機溶剤(S)は、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/40 , C08F 220/18

FI (4件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/40 511 , C08F220/18

Fターム (46件)：

2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096GA08 , 2H096KA03 , 2H096KA06 , 2H096KA13 , 2H125AF18P , 2H125AF22P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ18X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AN02P , 2H125AN11P , 2H125AN21P , 2H125AN63P , 2H125AN64P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA18 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA02P , 4J100BA20P , 4J100BC09P , 4J100BC53Q , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-044763 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-088358 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-027413 出願人：JSR株式会社

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