特許
J-GLOBAL ID：200903057026272030
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-044763
公開番号（公開出願番号）：特開2005-234326
出願日： 2004年02月20日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：
【課題】液浸露光に適用した場合のラインエッジラフネス、パターン倒れ及び露光ラチチュードを改良し、液浸液追随性に優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 (B)光酸発生剤 (C)下記溶媒α群から選択される少なくとも1種と下記溶剤β群から選択される少なくとも1種を含有する混合溶剤。 α群:アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート β群:沸点が120°Cより高いアルコール溶剤および乳酸アルキル溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂
(B)光酸発生剤
(C)下記溶媒α群から選択される少なくとも1種と下記溶剤β群から選択される少なくとも1種を含有する混合溶剤。
α群:アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート
β群:沸点が120°Cより高いアルコール溶剤および乳酸アルキル溶剤
を含有することを特徴とする液進露光用レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F7/004
, G03F7/039
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 514E
, H01L21/30 515D
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 5F046AA28
出願人引用 (6件)
-
特公昭57-153433号公報
-
パターン形成方法及びその露光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-008136
出願人：株式会社日立製作所
-
液浸型露光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-121757
出願人：株式会社ニコン
全件表示
審査官引用 (3件)
前のページに戻る
