特許
J-GLOBAL ID：201003041552359423

表示装置の製造方法および表示装置

発明者：
関谷 光信

関谷 光信 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (4件)： 藤島 洋一郎 ,  三反崎 泰司 ,  長谷部 政男 ,  田名網 孝昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-027645
公開番号（公開出願番号）：特開2010-182638
出願日： 2009年02月09日
公開日（公表日）： 2010年08月19日
要約：
【課題】下部電極または画素分離絶縁膜と有機層との位置ズレを小さくすることが可能な表示装置の製造方法、および、接続孔での短絡を抑えると共に開口率を向上させることが可能な表示装置を提供する。【解決手段】接続孔12Aの側面を順テーパー形状とすると共に、この接続孔12Aを含む領域に下部電極13を形成する。接続孔12Aでの下部電極13と上部電極16との短絡を抑えると共に開口率を向上させる。有機層15は、下部電極13の上面13Cおよび側面13Dの全部を覆って形成することにより画素分離絶縁膜を不要としてもよい。下部電極材料膜をエッチングするためのフォトレジスト膜を、蒸着マスクを用いて露光する。または、下部電極13を、蒸着マスクを用いた電子ビーム蒸着法またはスパッタ法により形成する。下部電極13と有機層15との位置ズレを小さくすることが可能となる。【選択図】図19
請求項（抜粋）：
複数の有機発光素子を備えた表示装置の製造方法であって、 基板に、前記複数の有機発光素子の各々に対応した駆動素子を形成する工程と、 前記駆動素子に対応する位置に側面が順テーパー形状の接続孔を有する1層以上の平坦化膜を形成する工程と、 前記複数の有機発光素子の各々に対応した下部電極を、前記接続孔を含む領域に形成する工程と、 前記下部電極の間の領域に画素分離絶縁膜を形成する工程と、 前記下部電極の上に、発光層を含む有機層を、蒸着マスクを用いた蒸着法により形成する工程と、 前記有機層の上に上部電極を形成する工程と を含み、 前記下部電極を形成する工程は、 下部電極材料膜を形成する工程と、 前記下部電極材料膜の上にフォトレジスト膜を形成する工程と、 前記フォトレジスト膜を前記蒸着マスクを用いて露光したのち現像する工程と、 前記フォトレジスト膜をマスクとしたエッチングにより前記下部電極材料膜を選択的に除去する工程と を含む表示装置の製造方法。
IPC (2件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (2件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (10件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC21 ,  3K107CC29 ,  3K107CC36 ,  3K107DD89 ,  3K107DD90 ,  3K107EE03 ,  3K107GG04 ,  3K107GG12
引用特許：
審査官引用 (4件)
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